产品名称：氮化铪（HfN）

规格：0.8-10um（D50）  

形貌：不规则

颜色：黑灰色 

特点：耐高温、‌耐腐蚀、‌耐磨损、‌抗热震、‌密度低且硬度高，优异的耐热性和力学性能

用途：航空航天、‌能源、‌电子器件等领域

中文名称： 氮化铪

英文名称：hafnium nitride

化学式： HfN

外观：土黄色粉末

熔点：3310℃

显微硬度：16GPa

相对分子质量：192.50

密度/（g/cm3）：10.85/cm3

比热容/[J/（kg.K）]：209.2

热导率/[W/（m.K）]：11.715

性质：相当稳定，但易为王水、浓硫酸、氢氟酸所腐蚀。

1. 高硬度：氮化铪的硬度非常高，比钢铁和钨还要高。

2. 高熔点：氮化铪的熔点非常高，约为3310℃。

3. 高导电性：氮化铪是一种良好的导体，在高温和高压条件下也能保持较好的导电性能。

4. 耐腐蚀性：氮化铪在高温和氧化气氛中表现出很好的稳定性，不易被腐蚀。

5. 高温稳定性：氮化铪在高温下也能保持稳定，因此被广泛应用于高温材料的制备。

6. 耐磨性：氮化铪在高温和高压下具有出色的耐磨性能，因此被广泛应用于切削工具和磨料的制备。

7. 化学稳定性：氮化铪在许多化学环境下都非常稳定，因此可以用于化学反应器和其他需要稳定性材料的应用。

制备工艺：

1. CVD法

CVD法是一种常用的制备氮化铪的方法，该方法将含铪原料和含氮原料在高温下反应，生成氮化铪薄膜。

2. PVD法

PVD法是一种真空镀膜技术，可将铪元素和氮元素在高温下蒸发并沉积在基底上形成氮化铪薄膜。

3. 热压烧结法

将含铪和含氮的粉末混合后，在高温高压下进行烧结，生成氮化铪块体。

产品应用:

1. 电子领域

氮化铪是一种优异的电子材料，可用于制造高速电子器件和集成电路。相较于传统的硅材料，氮化铪具有更高的电子迁移率和耐高温性能，能够在高温、高频率的条件下工作。因此，氮化铪在高温超导材料、微波器件、光电子器件等领域有着广泛的应用。

2. 航空航天领域

氮化铪具有优异的耐磨性、耐腐蚀性和高温性能，可用于制造航空发动机的零部件。在高温、高压的条件下，氮化铪能够保持稳定的性能，减少磨损和腐蚀，提高发动机的效率和寿命。

3.耐磨材料

HfN是一种熔点高，高硬度，耐磨，抗氧化的新型硬质材料，可用于技术和装饰领域的保护层，刀具的抗磨损外膜以及化学惰性膜和耐高温的保护膜等。

存储方法：本品应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果，另应避免重压，勿与氧化剂接触，按照普通货物运输。