产品名称：二硅化钴（CoSi₂）

规格：0.8-10um（D50）  

形貌：不规则

颜色：黑灰色 

特点：电阻率低、良好的热稳定性

用途：大规模集成电路

中文名称：硅化钴

化学式：CoSi2

分子量：115.104

CAS号：12017-12-8

EINECS号：234-616-8

密度：5.3g/cm3

熔点：1277℃

晶格常数：a=0.535nm

晶系：立方系结晶

外观：呈灰色的硅化物陶瓷粉末

溶解性：不溶于水

性质：低电阻率:在微电子中作为低阻接触和互连的关键。高温稳定性与抗氧化性： 作为高温涂层保护基材的核心能力。与硅工艺兼容性：易于通过自对准硅化工艺集成到标准硅基集成电路制造中。良好的硅界面特性：形成欧姆接触或肖特基接触的能力。潜在的热电性能：作为环境友好型热电材料的候选者。高硬度与耐磨性： 作为耐磨涂层的潜力。

性质与稳定性：遵照规格使用和储存则不会分解。CoSi2可与热的盐酸作用，溶于盐酸,不溶于硫酸。能被王水、浓硝酸、强碱溶液及熔融的氢氧化碱和碳酸碱所侵蚀。可与硫化氢、氟化氢、氯化氢、氟、氯等发生化学反应。

合成方法：

按照CoSi2的化学组成比将钴粉与硅粉混合均匀，在隔绝空气的条件下将其熔融，并在1150℃的温度下保温100h，使其充分均质化，产物为接近单一相的CoSi2。

用途：

1）硅化钴(CoSi₂)是金属与半导体连接所广泛所采用的材料，其作为半导体之基电极与金属导线之间的连接(inter-connect)在器件中工作。

2）接触与互连材料： 这是硅化钴最重要和最广泛的应用领域。CoSi₂具有相对较低的电阻率（约 18-25 μΩ·cm），与硅衬底有良好的欧姆接触特性，并且可以通过自对准硅化工艺形成。它常被用作MOSFET（金属氧化物半导体场效应晶体管）栅极、源极和漏极的接触材料，以及局部互连材料，能有效降低接触电阻和互连电阻，提高器件性能和集成度。

3）高温抗氧化涂层

硅化钴（尤其是CoSi₂）具有很高的熔点和良好的高温稳定性。

它在高温氧化环境下，表面能形成一层致密、粘附性好的二氧化硅保护膜，有效阻止氧气向基体内部扩散，从而保护金属或合金基体（如钴基高温合金、钼、铌等难熔金属）免受高温氧化和腐蚀。这使得它在燃气轮机叶片、航空发动机部件、高温炉元件等需要极端环境防护的应用中具有潜力。

4）热电材料：

某些硅化钴化合物（如Higher Manganese Silicides掺杂钴，或特定的Co-Si相）被研究作为潜在的中温区热电材料。热电材料能将热（废热）直接转化为电能。硅化钴体系因其相对较高的热电优值、环境友好（不含昂贵或有毒元素如Te, Pb）和良好的热稳定性而受到关注。

包装储存:本品为充惰气塑料袋包装，密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜暴露空气中，防受潮发生氧化团聚，影响分散性能和使用效果；包装数量可以根据客户要求提供分装。